IMPULSA EL TECNOLÓGICO DE PÁTZCUARO QUE LOS INNOVADORES MICHOACANOS PATENTEN SUS CREACIONES

REDACCIÓN//

Esta mañana, el Instituto Tecnológico Superior de Pátzcuaro convocó a todos los jóvenes emprendedores e innovadores a proteger sus creaciones y participar en la Primera Jornada al Impulso del Patentamiento que se realizará este 8 y 9 de septiembre.

En conjunto con la Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial-Fundación México-Estados Unidos para la Ciencia y con Nacional Financiera otorgarán apoyos económicos a todos aquellos que deseen patentar y proteger sus creaciones.

Tanto investigadores, estudiantes, inventores, académicos y emprendedores podrán recibir capacitación durante dos días en las instalaciones del Tecnológico de Pátzcuaro, donde especialistas ofrecerán toda la variedad de posibilidad para hacer realidad las innovaciones e invenciones de los jóvenes de la entidad.

Y lo fundamental, proteger mediante una patente, el modelo desarrollado por los inventores, para de esa manera seguir desarrollando sus conocimientos y creatividad.

El programa consta de siete conferencias y la primera de ellas la ofreció el Secretario de Innovación en Ciencia y Tecnología del Gobierno del Estado, José Luis Montañes Espinoza con la ponencia “La innovación como fuente de impulso y desarrollo”.

Para hoy están previstas las conferencias: “Búsquedas tecnológicas utilizando bases de datos libres” por LRCI. Fabiola Campos Jiménez.

Taller Coaching para innovaciones a participar en el Programa de Apoyo al Patentamiento IMPI-FUMEC-NAFIN por el Equipo FUMEC y Taller para el llenado de solicitud para la participación en el Programa de Apoyo al Patentamiento IMPI-FUMEC-NAFIN Por: Equipo FUMEC .

El director del tecnológico de Pátazcuaro, Agapito Pérez Díaz convocó a todos los jóvenes estudiantes y emprendedores a desplegar su creatividad, desarrollando modelos tecnológicos y sociales que beneficien a la sociedad y que ayuden a resolver necesidades urgentes.

Deja una respuesta

Tu dirección de correo electrónico no será publicada. Los campos obligatorios están marcados con *